국내 캠퍼스 세운 ASML, 삼성·SK 경영진과 회동

[포인트데일리 이준 기자] 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML의 크리스토프 푸케 최고경영자(CEO)가 삼성전자와 SK하이닉스 경영진과 만나는 것으로 전해졌다.

12일 업계에 따르면 푸케 CEO는 이날 오전 경기도 화성시 송동에서 열린 ASML 화성캠퍼스 준공식에 참석한 뒤 전영현 삼성전자 디바이스솔루션(DS)부문장(부회장)과 회동을 가질 예정이다. 전날에는 곽노정 SK하이닉스 CEO를 만난 것으로 알려졌다.

ASML은 네덜란드 반도체 장비 기업으로, 극자외선(EUV) 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하고 있으며, 삼성전자와 SK하이닉스를 비롯한 글로벌 반도체 기업에 해당 장비를 공급하고 있다. 

이번 회동은 글로벌 반도체 공급망 재편과 기술 생태계 재구성이 본격화되는 가운데 한국 반도체 산업의 중요성이 더욱 부각되고 있는 상황에서 이뤄졌다. 특히 네덜란드 정부가 미국의 요청에 따라 2019년부터 대중국 EUV 장비 수출을 제한하고, 최근에는 구형 장비에 대해서도 수출 통제를 강화함에 따라, ASML 입장에서는 한국 시장의 전략적 가치가 높아지고 있다는 분석이다.

삼성전자와 SK하이닉스는 최근 ASML의 차세대 'High NA EUV' 노광장비를 도입하며, 최첨단 반도체 공정 경쟁력을 강화하고 있다. 삼성전자는 올해 초 하이 NA 장비를 국내에 설치한 데 이어 연내 양산용 장비 한 대를 추가 도입할 계획이다. SK하이닉스는 지난 9월 경기도 이천 M16 생산라인에 해당 장비를 반입했다.

하이 NA EUV는 기존 EUV보다 해상도가 크게 향상된 장비로, 2나노미터(nm, 1nm=10억분의 1m) 이하 시스템반도체 및 10나노 이하 메모리 반도체 생산에 필수적이다. 장비 가격은 한 대당 5000억원 이상이며, 연간 공급량이 극히 제한돼 확보 경쟁이 치열하다.

삼성전자는 해당 장비를 자사 파운드리(반도체 위탁생산) 사업의 공정 성능 및 수율 개선에 우선 투입할 계획이며, 고성능 D램 기술 고도화에도 활용할 예정이다. SK하이닉스는 고성능 AI 메모리 제품군 확대에 집중하고 있으며, 오는 2031년까지 다양한 AI 메모리 솔루션을 제공하겠다는 전략을 내세우고 있다.